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高新精細氧化鎂納米研磨分散機,上海SGN(思峻)機械設(shè)備有限公司專門應對納米材料分散開發(fā)的高剪切三級分散機GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。
聯(lián)系電話:021-67898912
一、設(shè)備供應:
高新精細氧化鎂納米研磨分散機,納米制藥用級氧化鎂乳化機,氧化鎂納米研磨分散機,氧化鎂納米分散均質(zhì)設(shè)備
二、應用領(lǐng)域:
隨著產(chǎn)業(yè)化升級及技術(shù)功能材料市場的需求和發(fā)展,研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細氧化鎂產(chǎn)品,主要用于高級潤滑油、高級鞣革提堿級、食品級、醫(yī)藥級、硅鋼級、高級電磁級、高純氧化鎂等近十個品種組成。
三、設(shè)備介說明:
SGN德國納米制藥用級氧化鎂研磨分散機在分散氧化鎂時通過14000rpm很高的轉(zhuǎn)速形成的剪切力很強使物料在0.2-0.3mm極細的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬次的撞擊、破碎、撕裂,將原本抱團的納米級氧化鎂進一步的破碎,打開團塊形成納米級顆粒狀,為防止被打碎的納米級氧化鎂顆粒再次抱團,我們在研 磨后又加了一級分散均質(zhì)盤,對物料進行*的分散,阻止物料再進行二次抱團。氧化鎂分散的越細越均一,對于后期做應用性能就越好!
四、影響納米材料分散要素:
1、分散介質(zhì)
(1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
2、分散劑
(1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。
(2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān)。
(3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。
3、分散設(shè)備
上海SGN(思峻)機械設(shè)備有限公司專門應對納米材料分散開發(fā)的高剪切三級分散機GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。
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高新精細氧化鎂納米研磨分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相固體進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。
當其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時,甚至納米級時,體系可被認為均質(zhì)。當外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散均質(zhì),經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機的循環(huán)往復,ZUI終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
五、設(shè)備參數(shù):
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150
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